“中芯國際突然被評級公司認定為有‘較大不確定性’?！?/span>
公司情報專家《財經涂鴉》消息，12月28日，中誠信國際發(fā)布關于關注中芯國際集成電路制造有限公司（00981.HK）被納入“實體清單”的公告。中誠信國際認為，中芯國際被納入“實體清單”使得公司未來生產經營和投資面臨較大的不確定性，中誠信國際將持續(xù)關注上述事項的后續(xù)進展，并與中芯國際保持溝通，積極收集相關資料，及時評估上述事項對公司未來生產經營及整體信用狀況的影響，并披露相關信息。公告稱，中芯國際發(fā)行的“19 中芯國際 MTN001”由中誠信國際進行相關評級工作。
一路蒸蒸日上的中芯國際突然被其評級公司認定為有“較大不確定性”。
自2020年12月中芯國際CEO離職后，該企業(yè)收到了一個巨大的噩耗。中芯國際放出了這樣一條公告，稱中芯國際集成電路制造有限公司被納入了“實體清單”。
公告中解釋道，針對適用于美國《出口管制條例》的產品或技術，供應商須獲得美國商務部的出口許可才能向公司供應；對用于10nm及以下技術節(jié)點（包括極紫外光技術）的產品或技術，美國商務部會采取“推定拒絕”（Presumptionof Denial）的審批政策進行審核；同時公司為部分特殊客戶提供代工服務也可能受到一定限制。
這對于中芯國際又意味著什么呢？
卡死10nm
2020年10月，中芯國際官網新聞表示，該企業(yè)已經完成了7nm制程N+1工藝的流片，預計2021年時，7nm制程芯片可以風險量產（即小規(guī)模、低良品率）。所謂N+1，實際上是一種內部代號，仍然采用DUV進行生產，而非臺積電和三星那樣使用EUV進行生產。
雖然中芯國際并未公開N+1 7nm芯片的詳細數據，但是依照英特爾10nm的情況來看，該制程芯片CPP為54，金屬層2高度（M2P）為44，軌道高度為6.18。這樣的數值與臺積電的三星的7LPP制程7nm芯片以及臺積電的7FF制程7nm芯片相當。且梁孟松也曾公開表示，N+1 7nm制程更像是三星的8nm制程，因此中芯國際該制程芯片是一種7nm等效技術，可在電子設備上實現等同于7nm性能的效果，但芯片本身并非是7nm。
芯片在光刻過程中，會利用紫外光對晶圓進行曝光，曝光后利用化學材料進行顯影，如過無法實現一次曝光定型，那就需要再涂膠和曝光。越復雜的芯片就需要越多次的曝光，傳統(tǒng)的DUV機器想要實現7nm的要求就需要進行多次曝光。但是多次曝光會大幅增加材料成本，同時還會降低良品率，無法適用于企業(yè)級的大規(guī)模量產。于是ASML推出了EUV，只需要一次曝光就可以滿足7nm，甚至更先進規(guī)格芯片的要求。
之所以“實體清單”中明確限制了10nm，是因為芯片制程在國際社會中并沒有明確規(guī)定，這也是為什么英特爾的10nm制程和臺積電的7nm制程所差無幾的原因。而英特爾方面，該企業(yè)的10nm制程之后是7nm制程，傳統(tǒng)DUV機器無法實現7nm制程的量產，這時就需要用到EUV機器。
同理，如果中芯國際想要進軍7