實(shí)施適當(dāng)?shù)娘L(fēng)險(xiǎn)管理過(guò)程.一般情況下，在產(chǎn)品研發(fā)的重要階段(或里程碑)，風(fēng)險(xiǎn)管理是降低風(fēng)險(xiǎn)、提高管理效率的有效方法.如在產(chǎn)品需求分析階段，進(jìn)行系統(tǒng)級(jí)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理;在產(chǎn)品概念設(shè)計(jì)階段，進(jìn)行子系統(tǒng)級(jí)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理;在產(chǎn)品詳細(xì)設(shè)計(jì)階段，進(jìn)行零部件級(jí)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理;在產(chǎn)品工藝設(shè)計(jì)階段，進(jìn)行工藝級(jí)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理;在產(chǎn)品制造階段，進(jìn)行制造級(jí)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理等.產(chǎn)品研發(fā)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理過(guò)程由系統(tǒng)級(jí)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理、子系統(tǒng)級(jí)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理、零部件級(jí)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理等層次組成，從高層到底層，上一層的技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)如不加以控制，一般會(huì)將風(fēng)險(xiǎn)傳遞到下一層次，同時(shí)下一層次的技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)控制也會(huì)對(duì)上一層次的技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)產(chǎn)生影響.隨著產(chǎn)品研發(fā)過(guò)程的推進(jìn)，技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理的范圍不斷擴(kuò)大，深度不斷增加.
4應(yīng)用案例
現(xiàn)以國(guó)家“八六三”重大專項(xiàng)“100nm分辨率步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)”研制為例，采用上述復(fù)雜產(chǎn)品研發(fā)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理體系結(jié)構(gòu)，研究分析復(fù)雜產(chǎn)品研發(fā)的技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)，為風(fēng)險(xiǎn)控制提供決策依據(jù).
光刻設(shè)備是傳送電路圖案至晶片表面的裝備，是涉及光學(xué)、機(jī)械、控制、測(cè)量等各領(lǐng)域交叉結(jié)合的產(chǎn)品.而100nm步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)各個(gè)環(huán)節(jié)的精度幾乎全部是該領(lǐng)域的極限難題，同時(shí)，生產(chǎn)這種高精度產(chǎn)品需要考慮在較低精度等級(jí)時(shí)不需要考慮的許多因素，這使得機(jī)器的復(fù)雜性大為增加，對(duì)可靠性帶來(lái)極大的負(fù)面影響.
光刻設(shè)備由整機(jī)框架、控制系統(tǒng)、照明投影系統(tǒng)、掩模臺(tái)和工作臺(tái)系統(tǒng)、硅片傳輸系統(tǒng)、掩模片傳輸系統(tǒng)、調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、環(huán)境控制系統(tǒng)、檢測(cè)系等組成.光刻設(shè)備系統(tǒng)不僅子系統(tǒng)多，結(jié)構(gòu)組成復(fù)雜，而且功能多，性能指標(biāo)要求高.光刻設(shè)備有六大功能：數(shù)據(jù)管理功能，流片功能，測(cè)試分析與校準(zhǔn)功能，維修維護(hù)功能，環(huán)境保證功能和狀態(tài)改變功能.這些功能又可分解為許多子功能.
高精度光刻設(shè)備性能要求很高，對(duì)各個(gè)子系統(tǒng)的要求也很高.設(shè)備子系統(tǒng)與子系統(tǒng)之間、子系統(tǒng)與部件之間或部件與部件之間高度關(guān)聯(lián)，往往一個(gè)性能指標(biāo)受很多因素的影響.
正是由于上述因素，使得光刻設(shè)備的研制具有高度復(fù)雜性.在研發(fā)時(shí)間短、經(jīng)驗(yàn)缺乏、核心技術(shù)尚不成熟的條件下，產(chǎn)品研發(fā)存在著很高的風(fēng)險(xiǎn)，特別是技術(shù)風(fēng)險(xiǎn).所以，在產(chǎn)品研發(fā)過(guò)程中必須加強(qiáng)對(duì)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)的分析和控制.
4.1風(fēng)險(xiǎn)管理小組
光刻設(shè)備研發(fā)項(xiàng)目組特設(shè)了風(fēng)險(xiǎn)管理小組，專門負(fù)責(zé)對(duì)產(chǎn)品系統(tǒng)以及產(chǎn)品研發(fā)過(guò)程系統(tǒng)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)進(jìn)行分析和控制.風(fēng)險(xiǎn)管理領(lǐng)導(dǎo)小組構(gòu)成.
4.2技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理
根據(jù)上述復(fù)雜產(chǎn)品研發(fā)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)二維模型，光刻設(shè)備研發(fā)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理在產(chǎn)品技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)維和研發(fā)過(guò)程技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)維進(jìn)行.
(1)產(chǎn)品技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理
產(chǎn)品產(chǎn)生技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)的因素是產(chǎn)品結(jié)構(gòu)、零部件等.由于產(chǎn)品結(jié)構(gòu)、零部件等存在缺陷，導(dǎo)致產(chǎn)品技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)的產(chǎn)生，即產(chǎn)品不能滿足設(shè)計(jì)的功能要求.分析產(chǎn)品技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)的路徑就是從客戶需求出發(fā)，分析產(chǎn)品的功能.如產(chǎn)品不能滿足功能性能等質(zhì)量要求，則產(chǎn)生技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)事件.其風(fēng)險(xiǎn)因素可能是結(jié)構(gòu)形式的問(wèn)題，也可能是零部件的問(wèn)題.分析過(guò)程.
(2)過(guò)程技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理
光刻設(shè)備研發(fā)項(xiàng)目實(shí)施了標(biāo)準(zhǔn)的研發(fā)流程，并將研發(fā)流程固化在reamcenter Project軟件中.任何子系統(tǒng)研發(fā)流程基本類似，都有需求設(shè)計(jì)(定義)、概念設(shè)計(jì)(初步設(shè)計(jì))、詳細(xì)設(shè)計(jì)(技術(shù)設(shè)計(jì))、工藝設(shè)計(jì)和制造與驗(yàn)收諸階段組成.
在研發(fā)過(guò)程的每個(gè)階段的重要活動(dòng)，或階段與階段之間的交接活動(dòng)(即里程碑)必須進(jìn)行產(chǎn)品的技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理.當(dāng)各系統(tǒng)、子系統(tǒng)、零部件的設(shè)計(jì)由一個(gè)階段進(jìn)入另一階段時(shí)，風(fēng)險(xiǎn)管理小組對(duì)設(shè)計(jì)階段的風(fēng)險(xiǎn)進(jìn)行識(shí)別與評(píng)估，以決定研發(fā)是否進(jìn)入下一階段或重新回到前面的某一活動(dòng).表1為概念設(shè)計(jì)階段結(jié)束后的工作臺(tái)掩模臺(tái)系統(tǒng)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)分析.
通過(guò)應(yīng)用上述技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理方法，不僅驗(yàn)證了本文提出復(fù)雜產(chǎn)品研發(fā)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理的有效性，也對(duì)保證光刻機(jī)設(shè)備研發(fā)的成功具有重要的實(shí)用價(jià)值.
5結(jié)語(yǔ)
針對(duì)研發(fā)目標(biāo)產(chǎn)品和研發(fā)過(guò)程的復(fù)雜性，提出了技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)二維模型和技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理體系結(jié)構(gòu)，可應(yīng)用于大型復(fù)雜產(chǎn)品的研發(fā)技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理中.基于本文提出的技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)管理體系結(jié)構(gòu)，可進(jìn)一步進(jìn)行產(chǎn)品技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)和過(guò)程技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)的定量分析和風(fēng)險(xiǎn)控制。